JSR為全球第一大ArF光阻劑供應廠商，產品主要供應給美光科技與Intel。 JSR也投入開發超紫外線(EUV)光阻劑的行列，並朝向支援3nm與更先進製程的光阻劑技術與需求邁進。 JSR亦製作與販售半導體製程中的耗材，如CMP Slurry材料，供晶圓製造使用。 光阻劑廠商2023 若由世界銷售趨勢來分析，臺灣因世界級IC晶圓製造商台積電與記憶體大廠美光科技生產所需，於超紫外線(EUV)光阻劑與ArF光阻劑需求很高，整體光阻劑需求量排名世界第一。
面對中美科技冷戰，陳偉望認為，相較半導體前端製程業者已經意識到地緣政治的脆弱、在地供應鏈非做不可，後端業者還在觀望。 創立於1970年代，永光化學早期業務以紡織、皮革染料為核心，逐步發展出特用化學品（如抗氧化劑、紫外線吸收劑）、醫藥化學（如前列腺素原料藥）與電子化學品事業。 至於 EUV 光阻劑搭配 EUV 光刻機則成為下一代光刻技術的主流選擇，預計未來 7nm、3nm 等先進工藝將應用 EUV 光阻劑。 因此隨著半導體工藝的革新對於 ArF、EUV 類型的光阻劑需求將進一步提升。 在TFT-LCD製程使用時，Stripper會先加熱再將玻璃基板浸入，再以溶劑Rinse，去除水份。 在線路蝕刻完成後除去多餘的光阻劑，為Stripper之主要功能。
光阻劑廠商: 產業技術評析
業界觀察，光阻液市場由日本大廠主導，罕有價格波動，但日本東北213強震，導致當地不少化材大廠上游供應商紛傳因停電一度暫停生產，加上地震影響運輸與物流，確實影響半導體前段製程材料供應順暢程度，特別是信越化學有部分廠區暫時停工，使供給出現短期缺口。 此外，因應客戶需求，永光電子化學首次搶進光阻剝除液（stripper）市場，適用於半導體材料製造，不傷金屬表面，提高產品良率，光阻產品布局也更完整，採取Non-NMP、Non-DMSO配方，以低毒性的有機溶劑取代NMP與DMSO，讓客戶可減少使用聯合國高度關注的化學物質、提高競爭力。 而三星電子與 SK 海力士在全球最高水準製程中所使用的光阻劑，更只有日本廠商才有能力生產。 化學品的研發需要長時間的經驗累積，日本具有上百年的經驗，在精密化學材料方面，更位居全球的龍頭地位。
微影設備大廠艾司摩爾（ASML）執行長Peter Wennink在法說會中表示，2021年營運展望樂觀，同時邏輯及DRAM先進製程持續推進，為2021年EUV設備帶來強勁的成長動能。 台積電及三星等半導體大廠均已導入EUV技術並建置全新生產線，帶動EUV曝光機強勁出貨動能，法人看好極紫外光光罩盒（EUV Pod）供應商家登、EUV機台次系統模組代工廠帆宣、EUV光阻液供應商崇越及華立、EUV曝光機精密零件供應商公準等EUV概念股2021年接單暢旺，訂單能見度直達下半年。 半導體市場在2020年面臨新冠肺炎疫情及美中貿易戰等外在環境影響，但數位轉型加速，各半導體大廠同步加快EUV製程量產，並大幅拉高2021年資本支出擴建EUV新產能。 除了台積電將2021年資本支出拉升至250～280億美元，三星傳出年度資本支出上看300億美元，業界預期英特爾、美光、SK海力士會持續加碼資本支出。 台積電也是成熟製程主力供應商之一，惟公司目前處於法說會前緘默期，業界評估，台積電有多元供應商，此次陶氏化學工廠爆炸事件，對台積電應該沒有直接影響。 半導體業界人士表示，陶氏化學光阻劑主力應用在成熟製程，對先進製程影響相對有限，對成熟製程影響有待觀察，並牽動非半導體的其餘化學品耗材。
光阻劑廠商: 半導體製造中的塗佈
日經新聞 (NIKKEI) 光阻劑廠商 報導，日本信越化學 (Shin-Etsu Chemical) 將斥資 300 億日圓 ( 2.85 億美元，約合台幣 81.88 億元)，把半導體光阻劑(photoresist) 的產能提高 20%，以擴大高階晶片製造半導體關鍵材料的供應。 台灣顯示器產業聯合總會 (TDUA) 聯合四大協會與多家業者，共同成立 MicroLED 菁英陣隊，串聯國內上游半導體、中游面板、下游出海口完整產業鏈，橫向鏈結包括先進材料、半導體製程、精密設備、LED、背板、封裝測試等國內外供應鏈。 沒有富爸爸加持新應材公司，十年磨一劍，在台灣TFT面板光阻劑市場已搶占一席之地，在光阻劑相關技術研發、新產品開發、產品線完整性、客戶應用層面，完全不遜於面板集團大廠轉投資公司。
崇越提到，光阻劑及CMP等耗材現階段供貨皆正常，不受影響；至於是否有轉單效益或後續影響，須持續觀察。 在許多不同的領域，從基礎研究到工業應用，如半導體物理研究、微電子學和生物學。 橢圓偏振是一個很敏感的薄膜性質測量技術，且具有非破壞性和非接觸之優點。 MAXIS ICP-300LAH乾式蝕刻機產能較大，Batch式的載盤，其工作原理是利用電漿來進行薄膜的蝕刻，其最大優點是具有非等向性蝕刻,主要適用於半導體製程中氮化鎵材料蝕刻or藍寶石基板蝕刻。 Takizawa M-D02主要是用來作半導體黃光製程中的顯影製程。
光阻劑廠商: 產品介紹
半導體生產所使用的原料多達數百種，而即使是同樣品項，也會因製造廠商的不同，而產生性能上的差異。 就算品名相同，在更換製造廠商後，也需在製程上作出調整，無法立即上線使用。 韓國是全球最大的半導體生產國，然而生產原料及設備都極度依賴進口。 韓國的半導體生產設備自製率只有 18.2%，而在原料方面則達到 50.3%(2017 年時)。
- 台積電也是成熟製程主力供應商之一，惟公司目前處於法說會前緘默期，業界評估，台積電有多元供應商，此次陶氏化學工廠爆炸事件，對台積電應該沒有直接影響。
- 光阻剝離製程必須避免光阻回沾問題，有關光阻剝離之前與之後的光學顯微鏡(Optical Microscope; OM)比較照片如圖2所示。
- 創新的目的應該是為了改善與解決問題，創新的定義也需更加廣泛，舉凡改善公司作業流程、觀念、風氣、結構等，都是重要環節；但「傳承」公司文化，讓上一代留下來的美好價值延續到未來，順應潮流、彈性調整更是重點中的重點。
- 創立之初，長興即了解公司產品在化學領域中屬於特用化學品而非大眾化學品，產品配方時時在變，不同廠商在不同季節不同區段需要不同配方，因此公司自創立之初就有一群研發技術同仁致力於配方的研發與改善，長興在創新研發上的基礎就此奠定。
- 另一種方法稱為WEE，Wafer Edge Exposure，再加一層光罩，使邊緣曝光，再由顯影過程中一同除去。
一種常與水銀燈產生的I, G and H-lines一起使用，由重氮萘醌(DNQ)與酚醛樹脂所混合的正光阻。 資料來源：富士經濟；工研院產科國際所ITIS研究團隊整理(2020/8) 圖3 2020年全球光阻劑銷售量佔比預測。 但是負光阻劑在吸收顯影液後會膨脹，這會導致其解析度不如正光阻劑。 因此負光阻劑經常會被用於中小規模 IC 產品等解析度不太高的電路的製作中。
光阻劑廠商: 相關廠商
外部因應永續議題在全球各地的發酵，許多客戶都像西門子提出自己企業內部的改變需求。 西門子提供完善的數位軟體管理平台，縮短客戶在節能減碳數據應用的過渡期，更能監視並分析廠房人員的操作習慣與狀態，透過這些收集的數據，由內至外提升設備的節能與人員的效率。 舉例來說，西門子數位工業的「客戶審視服務」就能協助客戶了解企業大方向的資安現況，以及未來可以著重的管理作為，整體審視之後，客戶在考量現有的人力與財力資源，決定使用西門子的哪些軟硬體產品線，以實現未來的發展藍圖、面對資安風險。 而永光憑藉光阻劑技術實力也成為國家隊的一員，永光 LED 包含漿料與各製程光阻劑，公司指出，目前 Mini、Micro LED 的正型與負型光阻劑為主要銷售產品，漿料比重仍較低。 FSE FU16PSB是利用電漿(Plasma)對靶材料進行離子轟擊，而將靶材料表面的原子撞擊出來，這些靶原子以氣體分子型式發射出來，到達欲沉積的晶圓(基板)上，經過附著、吸附、表面遷徙、成核等過程之後，於晶圓(基板)上成長形成薄膜。
日本東北213強震導致日商主導約八成市場的半導體關鍵耗材光阻液供應告急，包括信越等主要供應商生產與海外供貨受阻，信越更宣布關閉廠區。 近期半導體供不應求，光阻液是台積電（2330）、聯電等晶圓廠生產必備關鍵耗材，隨著光阻液供應告急，恐使得半導體缺貨更嚴重。 日本政府在出口到韓國的半導體相關先進材料將進行管制，自 7 月 4 日起將取消韓國的最惠國待遇，在氟化聚醯亞胺、光阻劑、高純度氟化氫，這三種 OLED 光阻劑廠商2023 面板及半導體生產上不可或缺的原料出口，將從原先的免申請出口許可，改為逐案審核。
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LINK(LINK)在過去 24 小時內跌幅超過10.88%，最新價格5.981美元，總成交量達0.40億美元，總市值31.04億美元，目前市值排名第 20 名。 此外，印度海關的統計數據也顯示，手機進口數量已從2014年的2億支降至去年的377萬支，減少幅度逾98%，自中國的進口更是從1億7900萬支降至219萬支。 此外，投票機公司Smartmatic對朱利安尼的天價誹謗訴訟也在進行中，該公司指控朱利安尼未能交出任何涉案證據，朱利安尼的律師本周辯稱，「他還有很多帳單沒有付。我認為這讓朱利安尼先生感到非常羞愧。」朱利安尼已將他在紐約的公寓掛牌出售。 今年上半年合併營收245.5億元，歸屬母公司淨利14.1億元，雙創歷史同期次高，每股純益為7.76元。
- Si基板，丙酮，酒精，去離子水，震洗器，正光阻液(S1813)，顯影液(MF319)，遮罩，紫外光曝光箱，加熱器，旋舖機，氮氣槍。
- 台積電2021年資本支出上看250～280億美元，三星的半導體事業資本支出傳出上看300億美元，業界預期，包括英特爾、SK海力士、美光等大廠亦將調升資本支出。
- 據報導，由於KrF光阻劑產能受限以及全球晶圓廠積極擴產等，佔據全球光阻劑市場份額超兩成的日本供應商信越化學已經向中國大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光阻劑，且已通知更小規模晶圓廠停止供貨KrF光阻劑。
- 崇越（5434）（5434）昨（15）日召開法說會，公司指出，看好在資通訊數位、車用電動化及自動化以及AI高效晶片發展多元化等相關應用驅使下，今年營運將先蹲後跳，全年成長目標不變， 2024年持續看好。
- 在全球光阻劑市場上，日系廠商掌控約 8 成市占率，其中信越化學市占率達 2-3 成。
- 除了多項國際肯定及認證，台東大學還提供多項獎學金及清寒獎學金申請服務。
1990年，長興材料開始自研乾膜光阻劑，20年後成為全球最大的乾膜光阻劑供應商。 光阻劑廠商2023 在電路板製程中，乾膜光阻劑使用後即溶解，連殘存的材料都看不到，可謂名符其實的「隱形冠軍」。 而這個讓長興躍居世界第一的乾膜光阻劑基本配方，正是由工研院技轉而來，再由長興自行研發，為當年欲跨足電子化學材料產業，卻不得其門而入的長興提供了關鍵之鑰，也讓長興與工研院的夥伴關係一直持續至今。
光阻劑廠商: 中國LED廠漲價台廠不跟進 業者：市場需求問題仍存在
華立受惠客戶拉貨動能強勁，價格調漲，今年前3季稅後淨利達20.8億元、年增46.4%，每股稅後盈餘8.81元，超越去年全年的8.03元。 崇越前3季稅後盈餘16.61億元，年成長約9.3%，每股稅後盈餘9.14元，也創歷年同期新高。 此外，永光也開始將重心拓展到IC封裝業者與新一代材料碳化矽（SiC）、氮化鎵（GaN）帶來的功率半導體商機上。 正光阻劑：正光阻劑在經過曝光後，受到光照的部分將會變得容易溶解，只留下未受到光照的部分形成圖形；極精密 IC 產品及對感光靈敏度要求更高的 IC 產品，通常會選用正光阻劑來完成電路圖形的轉移。 負光阻劑：負光阻劑在經過曝光後，受到光照的部分變得不易溶解，留下光照部分形成圖形。 負光阻劑是最早被應用在光刻工藝上的光阻劑類型，它擁有工藝成本低、產量高等優點。
電子業市況放緩，永光（1711）積極切入高階材料應用，提高半導體封裝、車用IC與顯示器產品及 Mini／Micro LED 化學材料。 Mini 光阻劑廠商2023 LED光阻劑已穩定出貨國內LED領導廠商，Micro LED光阻劑開始銷售，未來有機會出貨給大陸、南韓廠商。 根據SEMI資料，日本幾大廠商在g線/i線、KrF、ArF膠市場中市占率分別為61%、80%、93%，而大陸國內g線/i線自給率約為20%，KrF光阻劑的自給率不足5%，12寸矽片的ArF光阻劑目前尚無國內企業可以大規模生產。 根據智研諮詢預測，2022年中國大陸半導體光阻劑市場空間將會接近55億元，是2019年的兩倍。
光阻劑廠商: 新聞中心
在資源相對較少的公立中型大學組當中，台東大學集中資源全力打造綠色大學，以突出的環境面成績摘冠。 台東大學表示，今年分發名額有鑑於現今學生對於職涯與工作取向需求，故調整各學系名額，以符合學生志願與總體社會所需。 112學年度大學分發入學放榜，台東大學總名額使用率達99.88％、缺額僅有1名。
完成凸塊電鍍(Bump Electroplating)後，必須將基板表面上之光阻去除(PR Stripping)，微電子構裝所使用光阻層厚度，一般比前段IC製造之光阻層厚，電子構裝使用之光阻厚度範圍為：25~250μm。 因為負光阻產生交連作用(Cross-linking)，光阻比較不易去除，常用的光阻剝離劑(PR Stripper)為NMP 光阻劑廠商 (N-methyl-pyrrolidinone)。 光阻剝離製程必須避免光阻回沾問題，有關光阻剝離之前與之後的光學顯微鏡(Optical Microscope; OM)比較照片如圖2所示。 經過十幾年來與客戶的共同進行製程開發，目前弘塑科技所製造之300mm全自動Wet Bench設備，在台灣半導體構裝廠(Bumping 光阻劑廠商2023 Fab)的市場佔有率(Market Share)已達99%。 同時為配合IoT裝置、終端消費電子等產品持續微型化與功能多樣化的要求，晶片整合的需求與日俱增，製程端也不斷透過縮短曝光波長以提高晶片上線路的解析度，藉以達到IC電路更高密度的佈局來減小產品體積，其中光阻劑即是微影製程中最關鍵的角色之一。 俗稱電木的酚醛樹脂(Phenolic Resin)是第一個商業化生產的人造合成樹脂，與金屬和木材相比，其容易製造、重量輕及具優良機械強度與電氣絕緣性能的特點，讓工業產品設計師易於設計並導入多樣化的功能。
